Open Access
Numéro
Collection SFO - Vol. 4
Volume 4, 1996
Page(s) 173 - 188
DOI https://doi.org/10.1051/sfo/1996001
Collection SFO 4 (1996) 173-188
DOI: 10.1051/sfo/1996001

Lasers à rayons X

P. Jaeglé

Laboratoire de Spectroscopie Atomique et Ionique, URA 775, Université Paris-Sud, 91405 Orsay, France


Résumé
Ce texte résume d'abord les conditions générales nécessaires à l'obtention d'amplification du rayonnement dans le domaine des rayons X. Il décrit les principaux mécanismes de pompage des ions multichargés au sein de plasmas de grande température puis il expose les conditions de saturation de l'émission laser et décrit les moyens de les atteindre à l'aide de demi-cavités à miroirs multicouche. Le texte présente le laser à 21,2 nm fonctionnant au Laboratoire d'Utilisation des Lasers Intenses (Palaiseau) et compare les performances de ce laser à celle des deux autres systèmes installés dans des laboratoires étrangers. Le laser à 21,2 nm constitue constitue une source X d'une brillance exceptionnelle. D'autre part la cohérence du rayonnement apparaît sur des figures de diffraction dont on donne un exemple et l'on montre que le faisceau des lasers X-UV peut être polarisé linéairement avec un taux de polarisation proche de 100%. Enfin l'extension de ces lasers vers des longueurs d'ondes encore plus courtes est brièvement discutée et quelques exemples de nombreuses applications potentielles sont données en conclusion.



© EDP Sciences 1996

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